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製造設備

グラムスケールからトンスケールまでの様々な反応に対応します。
弊社は、50L〜10,000Lと幅広い容量の反応釜を所有しており、多くの反応釜にフルゾーン®撹拌翼
*を採用していることから、効率的にスケールアップを行うことができます。
 OSP [マルチプラント]
開発初期段階のスケールアップに対応します。50Lおよび100L釜は一圧対応です。LAHを用いた還元反応も経験があります。
反応槽
受器
付帯設備
50L GL*×1基
50L GL×1基
加圧濾過器×2基
100L GL*×1基
100L GL×1基
遠心分離機
300L GL*×1基
300L GL×1基
棚段式減圧乾燥機(クリーンルーム内)
500L GL*×2基
500L GL×1基
50L エバポレーター
 
 OS-2 [マルチプラント]
数十キロ〜数百キロの製造に適したプラントです。また、有臭反応に対応し、除外設備が充実しています。DMSO酸化やZn還元反応も対応可能です。
反応槽
受器
付帯設備
6.0㎥GL*×1基
2.0㎥GL×1基
遠心分離機×2基
3.0㎥GL*×1基
0.5㎥GL×1基
減圧濾過器×2基
2.0㎥GL*×5基
0.3㎥GL×1基
棚段式乾燥機×3基
1.0*〜1.5㎥GL×3基
棚段式減圧乾燥機×3基
0.1〜0.5*㎥GL×6基
 
 OS-3 [GMP対応マルチプラント]
トンスケールの製造を目的としたプラントです。晶析〜分離〜乾燥〜充填(クリーンルーム)まで一貫ラインとし、GMPにも対応可能です。
反応槽
受器
付帯設備
10.0㎥GL×2基*
3.0㎥GL×1基
遠心分離機
6.0㎥GL×2基*
5.0㎥SUS×2基
加圧濾過器
5.0㎥GL×3基 SUS×1基
3.0㎥SUS×1基
ナウター乾燥機
3.0㎥SUS×1基
2.5㎥SUS×1基
振動乾燥機
1.0㎥SUS×1基
コニカル乾燥機
*印はすべてフルゾーン®撹拌翼です。
*フルゾーン®は(株)神鋼環境ソリューションの登録商標・登録特許です。http://www.kobelco-eco.co.jp/
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